WEKO3
アイテム
Fabrication of As-doped n-type BaSi2 epitaxial films grown by molecular beam epitaxy
http://hdl.handle.net/2241/00160268
http://hdl.handle.net/2241/00160268b31aa6df-1b07-450b-a594-0ac9e6c4a94d
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
|---|---|---|
JJAP_59-SFFA01 (667.4 kB)
|
.png)
|
| Item type | アイテムタイプJ(1) | |||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2020-07-03 | |||||||||
| タイトル | ||||||||||
| タイトル | Fabrication of As-doped n-type BaSi2 epitaxial films grown by molecular beam epitaxy | |||||||||
| 言語 | ||||||||||
| 言語 | eng | |||||||||
| 資源タイプ | ||||||||||
| 資源タイプ | journal article | |||||||||
| 著者 |
TOKO Kaoru
× TOKO Kaoru× SUEMASU Takashi× Aonuki Sho
× Yamashita Yudai
|
|||||||||
| 著者情報 | ||||||||||
| 所属・氏名 | 数理物質系; 都甲, 薫; トコウ, カオル; TOKO, Kaoru | |||||||||
| 研究者総覧URL | http://trios.tsukuba.ac.jp/researcher/0000003027 | |||||||||
| 著者情報 | ||||||||||
| 所属・氏名 | 数理物質系; 末益, 崇; スエマス, タカシ; SUEMASU, Takashi | |||||||||
| 研究者総覧URL | http://trios.tsukuba.ac.jp/researcher/0000000714 | |||||||||
| 書誌情報 |
en : Japanese Journal of Applied Physics 巻 59, 号 SF, p. SFFA01, 発行日 2020-04 |
|||||||||
| PISSN | ||||||||||
| 収録物識別子 | 0021-4922 | |||||||||
| NCID | ||||||||||
| 収録物識別子 | AA12295836 | |||||||||
| アクセス権 | ||||||||||
| アクセス権 | open access | |||||||||
| 権利情報 | ||||||||||
| 権利情報 | © 2020 The Japan Society of Applied Physics | |||||||||
| 権利情報 | ||||||||||
| 権利情報 | This is the Accepted Manuscript version of an article accepted for publication in Japanese Journal of Applied Physics. IOP Publishing Ltd is not responsible for any errors or omissions in this version of the manuscript or any version derived from it. The Version of Record is available online at https://doi.org/10.7567/1347-4065/ab5b7a. | |||||||||
| 出版者 | ||||||||||
| 出版者 | IOP Publishing | |||||||||
| 出版者 | ||||||||||
| 出版者 | The Japan Society of Applied Physics | |||||||||
| 出版タイプ | ||||||||||
| 出版タイプ | AM | |||||||||
| DOI | ||||||||||
| 関連タイプ | isVersionOf | |||||||||
| 関連識別子 | https://doi.org/10.7567/1347-4065/ab5b7a | |||||||||
