WEKO3
アイテム
Precipitation control and activation enhancement in boron-doped p + -BaSi2 films grown by molecular beam epitaxy
http://hdl.handle.net/2241/00121625
http://hdl.handle.net/2241/00121625715b52b3-d649-4904-89dd-417110a10e29
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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APL_104-25.pdf (1.2 MB)
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| Item type | Journal Article(1) | |||||
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| 公開日 | 2014-07-04 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | Precipitation control and activation enhancement in boron-doped p + -BaSi2 films grown by molecular beam epitaxy | |||||
| 言語 | en | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | eng | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
| 資源タイプ | journal article | |||||
| アクセス権 | ||||||
| アクセス権 | open access | |||||
| アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 | |||||
| 著者 |
Khan, M. Ajmal
× Khan, M. Ajmal× Nakamura, K.× Du, W.× 都甲, 薫× 末益, 崇 |
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| 書誌情報 |
en : Applied Physics Letters 巻 104, 号 25, p. 252104, 発行日 2014-06 |
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| ISSN | ||||||
| 収録物識別子タイプ | PISSN | |||||
| 収録物識別子 | 0003-6951 | |||||
| NCID | ||||||
| 収録物識別子タイプ | NCID | |||||
| 収録物識別子 | AA00543431 | |||||
| DOI | ||||||
| 関連タイプ | isIdenticalTo | |||||
| 識別子タイプ | DOI | |||||
| 関連識別子 | https://doi.org/10.1063/1.4885553 | |||||
| 権利情報 | ||||||
| 言語 | en | |||||
| 権利情報 | © 2014 AIP Publishing LLC. This article may be downloaded for personal use only. Any other use requires prior permission of the author and the American Institute of Physics. The following article appeared in Appl. Phys. Lett. 104, 252104 (2014) and may be found at http://dx.doi.org/10.1063/1.4885553. | |||||
| 出版タイプ | ||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||
| 出版者 | ||||||
| 出版者 | AIP Publishing | |||||
| 言語 | en | |||||
