WEKO3
アイテム
Lattice and grain-boundary diffusions of boron atoms in BaSi2 epitaxial films on Si(111)
http://hdl.handle.net/2241/118784
http://hdl.handle.net/2241/118784391a1c24-242a-492e-827f-4fb44ba674d2
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
|---|---|---|
JAP_113-5.pdf (1.0 MB)
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| Item type | Journal Article(1) | |||||
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| 公開日 | 2013-04-03 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | Lattice and grain-boundary diffusions of boron atoms in BaSi2 epitaxial films on Si(111) | |||||
| 言語 | en | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | eng | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
| 資源タイプ | journal article | |||||
| アクセス権 | ||||||
| アクセス権 | open access | |||||
| アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 | |||||
| 著者 |
Nakamura, K.
× Nakamura, K.× Baba, M.× Ajmal, Khan M.× Du, W.× Sasase, M.× Hara, K. O.× Usami, N.× 都甲, 薫× 末益, 崇 |
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| 書誌情報 |
en : Journal of Applied Physics 巻 113, 号 5, p. 053511, 発行日 2013-02 |
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| ISSN | ||||||
| 収録物識別子タイプ | PISSN | |||||
| 収録物識別子 | 0021-8979 | |||||
| NCID | ||||||
| 収録物識別子タイプ | NCID | |||||
| 収録物識別子 | AA00693547 | |||||
| DOI | ||||||
| 関連タイプ | isIdenticalTo | |||||
| 識別子タイプ | DOI | |||||
| 関連識別子 | https://doi.org/10.1063/1.4790597 | |||||
| 権利情報 | ||||||
| 言語 | en | |||||
| 権利情報 | © 2013 American Institute of Physics. | |||||
| 権利情報 | ||||||
| 言語 | en | |||||
| 権利情報 | This article may be downloaded for personal use only. Any other use requires prior permission of the author and the American Institute of Physics. The following article appeared in J. Appl. Phys. 113, 053511 and may be found at http://link.aip.org/link/?jap/113/053511. | |||||
| 出版タイプ | ||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||
| 出版者 | ||||||
| 出版者 | American Institute of Physics | |||||
| 言語 | en | |||||
