WEKO3
アイテム
Three-step growth of highly photoresponsive BaSi2 light absorbing layers with uniform Ba to Si atomic ratios
http://hdl.handle.net/2241/00161477
http://hdl.handle.net/2241/0016147722a1a614-b0ff-4adb-9fda-8df35b08cc54
名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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![]() |
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Item type | Journal Article(1) | |||||
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公開日 | 2020-09-28 | |||||
タイトル | ||||||
タイトル | Three-step growth of highly photoresponsive BaSi2 light absorbing layers with uniform Ba to Si atomic ratios | |||||
言語 | ||||||
言語 | eng | |||||
資源タイプ | ||||||
資源タイプ | journal article | |||||
アクセス権 | ||||||
アクセス権 | open access | |||||
著者 |
都甲, 薫
× 都甲, 薫× 末益, 崇× Yamashita, Yudai× Sato, Takuma× Saitoh, Noriyuki× Yoshizawa, Noriko |
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書誌情報 |
en : Journal of Applied Physics 巻 126, 号 21, p. 215301, 発行日 2019-12 |
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ISSN | ||||||
収録物識別子タイプ | PISSN | |||||
収録物識別子 | 0021-8979 | |||||
NCID | ||||||
収録物識別子タイプ | NCID | |||||
収録物識別子 | AA00693547 | |||||
DOI | ||||||
関連タイプ | isIdenticalTo | |||||
関連識別子 | https://doi.org/10.1063/1.5128690 | |||||
権利情報 | ||||||
権利情報 | © 2019 Author(s). | |||||
権利情報 | ||||||
権利情報 | This article may be downloaded for personal use only. Any other use requires prior permission of the author and AIP Publishing. This article appeared in Journal of Applied Physics 126, 21, 215301 (2019) and may be found at https://doi.org/10.1063/1.5128690. | |||||
出版タイプ | ||||||
出版タイプ | VoR | |||||
出版者 | ||||||
出版者 | American Institute of Physics |