WEKO3
アイテム / Impact of Ba to Si deposition rate ratios during molecular beam epitaxy on carrier concentration and spectral response of BaSi2 epitaxial films / JAP_123-4
JAP_123-4
ファイル | ライセンス |
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JAP_123-4.pdf (1.4 MB) sha256 a77a63280e71a7b821065c31fa90d2d297d7f6a82b99d17f92707d06c8b520f1 |
公開日 | 2018-07-19 | |||||
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ファイル名 | JAP_123-4.pdf | |||||
本文URL | https://tsukuba.repo.nii.ac.jp/record/47569/files/JAP_123-4.pdf | |||||
オブジェクトタイプ | fulltext | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 1.4 MB |
Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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