WEKO3
アイテム / Impact of Ba to Si deposition rate ratios during molecular beam epitaxy on carrier concentration and spectral response of BaSi2 epitaxial films / JAP_123-4
JAP_123-4
| ファイル | ライセンス |
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 JAP_123-4.pdf (1.4 MB)
sha256
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| 公開日 | 2019-02-01 | |||||
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| ファイル名 | JAP_123-4.pdf | |||||
| 本文URL | https://tsukuba.repo.nii.ac.jp/record/47569/files/JAP_123-4.pdf | |||||
| オブジェクトタイプ | fulltext | |||||
| フォーマット | application/pdf | |||||
| サイズ | 1.4 MB | |||||
| Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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