WEKO3
アイテム
Significant photoresponsivity enhancement of polycrystalline BaSi2 films formed on heated Si(111) substrates by sputtering
http://hdl.handle.net/2241/00152935
http://hdl.handle.net/2241/0015293567ffeb18-3fad-4ca5-95cc-fe13ed366ee5
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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APEX_11-7.pdf (597.5 kB)
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.png)
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| Item type | Journal Article(1) | |||||
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| 公開日 | 2018-07-19 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | Significant photoresponsivity enhancement of polycrystalline BaSi2 films formed on heated Si(111) substrates by sputtering | |||||
| 言語 | en | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | eng | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
| 資源タイプ | journal article | |||||
| アクセス権 | ||||||
| アクセス権 | open access | |||||
| アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 | |||||
| 著者 |
Matsuno, Satoshi
× Matsuno, Satoshi× Takabe, Ryota× Yokoyama, Seiya× 都甲, 薫× Mesuda, Masami× Kuramochi, Hideto× 末益, 崇 |
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| 書誌情報 |
en : Applied Physics Express 巻 11, 号 7, p. 071401, 発行日 2018-07 |
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| ISSN | ||||||
| 収録物識別子タイプ | PISSN | |||||
| 収録物識別子 | 1882-0778 | |||||
| NCID | ||||||
| 収録物識別子タイプ | NCID | |||||
| 収録物識別子 | AA12295133 | |||||
| DOI | ||||||
| 関連タイプ | isIdenticalTo | |||||
| 識別子タイプ | DOI | |||||
| 関連識別子 | https://doi.org/10.7567/APEX.11.071401 | |||||
| 権利情報 | ||||||
| 言語 | en | |||||
| 権利情報 | (c) 2018 The Japan Society of Applied Physics | |||||
| 権利情報 | ||||||
| 言語 | en | |||||
| 権利情報 | Content from this work may be used under the terms of the Creative Commons Attribution 4.0 license. Any further distribution of this work must maintain attribution to the author(s) and the title of the work, journal citation and DOI. | |||||
| 出版タイプ | ||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||
| 出版者 | ||||||
| 出版者 | IOP Publishing | |||||
| 言語 | en | |||||
| 出版者 | ||||||
| 出版者 | The Japan Society of Applied Physics | |||||
| 言語 | en | |||||
