WEKO3
アイテム
Evaluation of band offset at amorphous-Si/BaSi2 interfaces by hard x-ray photoelectron spectroscopy
http://hdl.handle.net/2241/00139708
http://hdl.handle.net/2241/001397089fa8bd92-beda-4143-95d7-1b2aa5fe8e0c
名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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Item type | Journal Article(1) | |||||
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公開日 | 2016-04-28 | |||||
タイトル | ||||||
言語 | en | |||||
タイトル | Evaluation of band offset at amorphous-Si/BaSi2 interfaces by hard x-ray photoelectron spectroscopy | |||||
言語 | ||||||
言語 | eng | |||||
資源タイプ | ||||||
資源 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
タイプ | journal article | |||||
アクセス権 | ||||||
アクセス権 | open access | |||||
アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 | |||||
著者 |
Takabe, Ryota
× Takabe, Ryota× Takeuchi, Hiroki× Du, Weijie× Ito, Keita× 都甲, 薫× Ueda, Shigenori× Kimura, Akio× 末益, 崇 |
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書誌情報 |
en : Journal of Applied Physics 巻 119, 号 16, p. 165304, 発行日 2016-04 |
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ISSN | ||||||
収録物識別子タイプ | PISSN | |||||
収録物識別子 | 0021-8979 | |||||
書誌レコードID | ||||||
収録物識別子タイプ | NCID | |||||
収録物識別子 | AA00693547 | |||||
DOI | ||||||
関連タイプ | isIdenticalTo | |||||
識別子タイプ | DOI | |||||
関連識別子 | https://doi.org/10.1063/1.4947501 | |||||
権利 | ||||||
言語 | en | |||||
権利情報 | © 2016 AIP Publishing LLC. | |||||
権利 | ||||||
言語 | en | |||||
権利情報 | This article may be downloaded for personal use only. Any other use requires prior permission of the author and the American Institute of Physics.The following article appeared in J. Appl. Phys. 119, 165304 (2016) and may be found at http://dx.doi.org/10.1063/1.4947501. | |||||
出版タイプ | ||||||
出版タイプ | VoR | |||||
出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||
出版者 | ||||||
言語 | en | |||||
出版者 | American Institute of Physics |