WEKO3
アイテム
マイクロチャネルエピタキシーによる赤外線受光用大粒径鉄シリサイド膜
http://hdl.handle.net/2241/118710
http://hdl.handle.net/2241/11871091ff9710-17c7-4693-a86c-07035d8639d9
名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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21360002seika.pdf (544.8 kB)
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Item type | Research Paper(1) | |||||
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公開日 | 2013-03-19 | |||||
タイトル | ||||||
言語 | ja | |||||
タイトル | マイクロチャネルエピタキシーによる赤外線受光用大粒径鉄シリサイド膜 | |||||
タイトル | ||||||
言語 | en | |||||
タイトル | Large grain-sized FeSi2 films by micro-channel epitaxy for infrared detectors | |||||
言語 | ||||||
言語 | jpn | |||||
資源タイプ | ||||||
資源 | http://purl.org/coar/resource_type/c_18ws | |||||
タイプ | research report | |||||
アクセス権 | ||||||
アクセス権 | open access | |||||
アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 | |||||
著者 |
末益, 崇
× 末益, 崇 |
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内容記述 | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | 科学研究費助成事業(科学研究費補助金)研究成果報告書:基盤研究(B)2009-2011 課題番号:21360002 |
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書誌情報 |
発行日 2012 |