WEKO3
アイテム
Influence of spin density in implanted Si layers on pulsed-laser annealing
http://hdl.handle.net/2241/104182
http://hdl.handle.net/2241/10418268325b25-d3a8-4abe-b0ba-906ba73558d1
名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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Item type | Journal Article(1) | |||||
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公開日 | 2009-12-24 | |||||
タイトル | ||||||
タイトル | Influence of spin density in implanted Si layers on pulsed-laser annealing | |||||
言語 | ||||||
言語 | eng | |||||
資源タイプ | ||||||
資源タイプ | journal article | |||||
アクセス権 | ||||||
アクセス権 | open access | |||||
著者 |
村上, 浩一
× 村上, 浩一× Ikawa, E.× Gamo, K.× Namba, S.× Akasaka, Y. |
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書誌情報 |
en : Applied Physics Letters 巻 35, 号 5, p. 413-415, 発行日 1979-09 |
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ISSN | ||||||
収録物識別子タイプ | PISSN | |||||
収録物識別子 | 0003-6951 | |||||
NCID | ||||||
収録物識別子タイプ | NCID | |||||
収録物識別子 | AA00543431 | |||||
DOI | ||||||
関連タイプ | isIdenticalTo | |||||
関連識別子 | https://doi.org/10.1063/1.91144 | |||||
権利情報 | ||||||
権利情報 | © 1979 American Institute of Physics. | |||||
出版タイプ | ||||||
出版タイプ | VoR | |||||
出版者 | ||||||
出版者 | AIP Publishing |