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Anelasticity study on electromigration effect in Cu thin films
http://hdl.handle.net/2241/101257
http://hdl.handle.net/2241/101257373f4a2b-67cf-41a9-829f-25224866f829
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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MSEA_442-1-342.pdf (851.1 kB)
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| Item type | Journal Article(1) | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2008-12-19 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | Anelasticity study on electromigration effect in Cu thin films | |||||
| 言語 | en | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | eng | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
| 資源タイプ | journal article | |||||
| アクセス権 | ||||||
| アクセス権 | open access | |||||
| アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 | |||||
| 著者 |
水林, 博
× 水林, 博× Goto, K.× Ebisawa, T.× 谷本, 久典 |
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| 書誌情報 |
en : Materials science and engineering. A 巻 442, 号 1-2, p. 342-346, 発行日 2006-12 |
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| ISSN | ||||||
| 収録物識別子タイプ | PISSN | |||||
| 収録物識別子 | 0921-5093 | |||||
| NCID | ||||||
| 収録物識別子タイプ | NCID | |||||
| 収録物識別子 | AA10720420 | |||||
| DOI | ||||||
| 関連タイプ | isVersionOf | |||||
| 識別子タイプ | DOI | |||||
| 関連識別子 | https://doi.org/10.1016/j.msea.2006.02.227 | |||||
| 権利情報 | ||||||
| 言語 | en | |||||
| 権利情報 | © 2006 Elsevier B.V. | |||||
| 出版タイプ | ||||||
| 出版タイプ | AM | |||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_ab4af688f83e57aa | |||||
| 出版者 | ||||||
| 出版者 | Elsevier B.V. | |||||
| 言語 | en | |||||
