WEKO3
アイテム / In situ mask designed for selective growth of InAs quantum dots in narrow regions developed for molecular beam epitaxy system / RSI_78-7
RSI_78-7
ファイル | ライセンス |
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RSI_78-7.pdf (487.7 kB) sha256 12934bf510ffa176d28b839aca668c5229cda65d72c713a8e1897b0b45f0602d |
公開日 | 2007-11-06 | |||||
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ファイル名 | RSI_78-7.pdf | |||||
本文URL | https://tsukuba.repo.nii.ac.jp/record/9451/files/RSI_78-7.pdf | |||||
オブジェクトタイプ | fulltext | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 487.7 kB |
Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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