@phdthesis{oai:tsukuba.repo.nii.ac.jp:00008729,
 author = {吉田, 善一 and Yoshida, Yoshikazu},
 month = {},
 note = {本研究の背景と対象 半導体を中心とした電子デバイスの分野では、微細化、高集積化、積層化に伴い、薄膜加工技術において、三次元方向に原子オーダ(～10Å)の制御性が要求されている。それを実現するためには、現行の薄膜加工技術だけでは不十分であると ..., 1989},
 school = {筑波大学, University of Tsukuba},
 title = {高融点金属イオン源の開発とイオンビームデポジションへの応用に関する研究},
 year = {1989}
}