WEKO3
アイテム / Evaluation of band offset at amorphous-Si/BaSi2 interfaces by hard x-ray photoelectron spectroscopy / JAP_119-16
JAP_119-16
ファイル | ライセンス |
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JAP_119-16.pdf (1.4 MB) sha256 d30d58903ee21efe00f867084a087707c58b3012d86774abc85def80c7ae9783 |
公開日 | 2016-04-28 | |||||
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ファイル名 | JAP_119-16.pdf | |||||
本文URL | https://tsukuba.repo.nii.ac.jp/record/37798/files/JAP_119-16.pdf | |||||
オブジェクトタイプ | fulltext | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 1.4 MB |
Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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