WEKO3
アイテム / Theoretical model for artificial structure modulation of HfO2/SiOx/Si interface by deposition of a dopant material / APL_100-9
APL_100-9
ファイル | ライセンス |
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APL_100-9.pdf (1.1 MB) sha256 1d8c802aedd3529912cb3dcffdd4391267134880a6dc91226d556358fe3d484a |
公開日 | 2012-05-11 | |||||
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ファイル名 | APL_100-9.pdf | |||||
本文URL | https://tsukuba.repo.nii.ac.jp/record/27189/files/APL_100-9.pdf | |||||
オブジェクトタイプ | fulltext | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 1.1 MB |
Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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