WEKO3
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シリコン熱酸化の界面素過程に関する理論的研究
http://hdl.handle.net/2241/588
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名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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1.pdf (744.0 kB)
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Item type | Research Paper(1) | |||||
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公開日 | 2007-03-01 | |||||
タイトル | ||||||
言語 | ja | |||||
タイトル | シリコン熱酸化の界面素過程に関する理論的研究 | |||||
タイトル | ||||||
言語 | en | |||||
タイトル | Theoretical studies on the basic processes of Si Thermal Oxydation | |||||
言語 | ||||||
言語 | jpn | |||||
資源タイプ | ||||||
資源 | http://purl.org/coar/resource_type/c_18ws | |||||
タイプ | research report | |||||
著者 |
白石, 賢二
× 白石, 賢二 |
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内容記述 | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | 科学研究費補助金基盤研究(C)(2)研究成果報告書 ~ 平成14-15年度 課題番号: 14550020 |
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言語 | ja | |||||
書誌情報 |
発行日 2004 |