@article{oai:tsukuba.repo.nii.ac.jp:00016820, author = {末益, 崇 and SUEMASU, Takashi and 長谷川, 文夫 and HASEGAWA, Fumio}, issue = {1}, journal = {日本結晶成長学会誌}, month = {Mar}, pages = {46--54}, title = {RDE法によるSi/β-FeSi_2/Si(001)構造の作製(<小特集>ヘテロエピタキシーと界面構造制御)}, volume = {25}, year = {1998}, yomi = {スエマス, タカシ and ハセガワ, フミオ} }