WEKO3
アイテム / Growth and characterization of group-III impurity-doped semiconducting BaSi2 films grown by molecular beam epitaxy / TSF_515-22-8242
TSF_515-22-8242
ファイル | ライセンス |
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TSF_515-22-8242.pdf (300.8 kB) sha256 d69d50eb6c551ede60aebc6c9dc7f5ec0e665c6e6af7f98dc5afa4a4d58d074f |
Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 International (CC BY-NC-ND 4.0) |
公開日 | 2007-12-19 | |||||
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ファイル名 | TSF_515-22-8242.pdf | |||||
本文URL | https://tsukuba.repo.nii.ac.jp/record/15061/files/TSF_515-22-8242.pdf | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 300.8 kB |
Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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