@misc{oai:tsukuba.repo.nii.ac.jp:00012807,
 author = {柳澤, 好宏 and Yanagisawa, Takahiro},
 month = {},
 note = {2001, 【要旨】},
 title = {高密度プラズマCVD法によるSiO2膜およびSiOF膜の形成と膜質評価},
 year = {2002}
}