@misc{oai:tsukuba.repo.nii.ac.jp:00012477,
 author = {小山, 享宏 and Koyama, Takahiro},
 month = {},
 note = {2004, 【要旨】},
 title = {へリコン波励起プラズマスパッタエピタキシー法による酸化亜鉛系半導体薄膜の成長機構},
 year = {2005}
}