2024-03-28T21:15:54Z
https://tsukuba.repo.nii.ac.jp/oai
oai:tsukuba.repo.nii.ac.jp:00012807
2023-06-12T01:26:07Z
3:267:274
高密度プラズマCVD法によるSiO2膜およびSiOF膜の形成と膜質評価
柳澤, 好宏
47691
Yanagisawa, Takahiro
筑波大学
University of Tsukuba
博士(工学)
Doctor of Philosophy in Engineering
2001
【要旨】
thesis
2002
2002-03-25
application/pdf
乙第1825号
https://tsukuba.repo.nii.ac.jp/record/12807/files/B1825.pdf
jpn
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