2024-03-29T00:26:13Z
https://tsukuba.repo.nii.ac.jp/oai
oai:tsukuba.repo.nii.ac.jp:00000249
2023-05-30T02:11:28Z
3:2658:2660
シリコン熱酸化の界面素過程に関する理論的研究
Theoretical studies on the basic processes of Si Thermal Oxydation
白石, 賢二
Shiraishi, Kenji
科学研究費補助金基盤研究(C)(2)研究成果報告書 ~ 平成14-15年度
課題番号: 14550020
2004
jpn
research report
http://hdl.handle.net/2241/588
https://tsukuba.repo.nii.ac.jp/records/249
https://tsukuba.repo.nii.ac.jp/record/249/files/1.pdf
application/pdf
744.0 kB
2013-12-12